芯片制造“大国重器”背后的九九八十一难

相比之下，中微半导体在2019年年度报告中透露，其2019年的总研发支出约4.25亿人民币，占总营收21.81%；北方华创在2019年年度报告中提到，其2019年总研发支出约11.37亿人民币，占总营收28.03%；而上海微电子研发投入尚未公开。

结语：一次跨度20年的国产化浪潮

回看我国光刻机和刻蚀机的国产化浪潮，这是一个对外突破层层限制封锁，对内从无到有逐步萌芽与发展的故事，它们几乎从同一起跑线出发，却因技术壁垒的差异跑出了两种不同的光景。

在这场跨度20年的国产化进程中，我们既看到了以尹志尧为代表的创业先锋，晚年毅然放弃国外高薪待遇回国，带领国内刻蚀机水平突破先进制程领域；更看到中国作为一名长跑型选手在追赶先进技术领域的信心和决心，将半导体产业提升到国家越来越重要的发展地位，各路政策、资金、人才等资源全力支持。

现阶段，我国追赶国际半导体设备巨头的玩家仍屈指可数。在光刻机领域有上海微电子一马当先，在刻蚀机领域则有中微半导体和北方华创双双出击。

但在阶段性的成果背后，我们也要看到国内玩家与全球巨头在技术水平、市场规模上还存在较大差距，而造成这一差距的不仅仅是落后了数十年的技术经验，也有着巨大的资金投入差异。

未来，我国的光刻机和刻蚀机仍需面对许多挑战，但经历20年发展所取得的阶段性成果，我们有理由相信在未来，国产光刻机和刻蚀机终将发挥无限的潜力。

（编辑：555手机网）

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